Donald Trump: Președintele Putin și cu mine ne vom întâlni într-o locație deja convenită, Budapesta, în Ungaria, pentru a vedea dacă putem pune capăt acestui război >

Mircea Dușa

Dr. Mircea Dușa este o figură distinsă în industria semiconductorilor, cu o carieră de peste patru decenii în litografie și domeniile conexe. Deține un Master în Inginerie Electrică și Fizica Solidului, precum și un doctorat în Optică Aplicată de la Universitatea Politehnica din București.

Si-a inceput cariera la Institutul de Cercetare Pentru Componente Electronice din platforma industriala Baneasa-Bucuresti, unde a lucrat in domeniul tehnologiilor de fabricaţie pentru dispozitive electronice pentru fabricile IPRS Băneasa şi Microelectronica. A început ca inginer de cercetare şi dezvoltare în procesul de litografie, etapa-cheie în tehnologia dispozitivelor semiconductoare, prin care se transferă geometriile circuitelor integrate pe placheta de siliciu.               Un moment definitoriu la inceputul carierei sale a constat în proiectarea, construirea și punerea în funcţiune in anii 1980, a primelor două camere ultracurate cu atmosferă controlată din România, prima, de clasă de curatenie „1000” pentru lithografie măştilor la ICCE, a doua, de clasa de curatenie „100” fiind şi cea mai mare cameră ultracurată din România, pentru fabricaţia de circuite integrate in tehnologie MOS la întreprinderea Microelectronica.                Începând din1990, a lucrat în SUA, în San Jose (Silicon Valley), în domeniul proceselor şi echipamentelor pentru industria de semiconductoare, in domeniul fotolitografiei, în poziții de inginerie şi management tehnic. Un al moment important al carierei in SUA, l-a constituit activitatea la compania National Semiconductor, Fairchild Research Center, locul in care s-a inventat technologia semiconductoare si unde s-a realizat primul circuit integrat din lume. Acolo, a condus dezvoltările litografice pentru circuite integrate analogice și CMOS cu dimensiuni submicronice introducind tehnologiiinovatoare de step-and-scan si de expunere în lumina ultravioleta.

Dr. Dusa si-a dedicat o parte considerabli a carierei, peste 20 de ani, la ASML, cel mai important furnizor mondial de echipamente de litografie, unde a fost membru fondator al Centrului de Dezvoltare Tehnologică. În acest rol, a desfășurat activități exploratorii pentru a îmbunătăți performanțele noilor echipamente de litografie cum sint cele cu expunere prin imersie și cele cu expunere utilizind radiatii din domeniul ultra violet, EUV, prin introducerea in premiera a metodelor holistice, prin care sistemele de expunere, sint complementate cu celelalte componente ale proceselor fizice de generare dispozitive semiconductoare pe plachete de Siliciu,

La sfirsitul mandatului de la ASML, Dr. Dusa s-a alăturat IMEC, cel mai important centru mondial de cercetare si dezvoltare technologii semiconductoare, in calitate de Fellow, concentrându-se pe tehnologiile de litografie de dimensiuni nanometrice. Expertiza sa acopera diversele aspecte ale litografiei, incepind cu instrumentele de expunere, confecționarea măștilor, metrologie, controlul proceselor și co-optimizarea proiectării cu procesele tehnologice pe placheta de siliciu.

De-a lungul carierei sale, Dr. Dusa a fost autorul a peste 200 de publicații tehnice prezentate si publicate la conferinte si in reviste internationale. Deține aproximativ două duzini de brevete americane în litografie și științe metrologice, acoperind subiecte precum imagistica si controlul dimensional. Este recunoscut pentru activitatea de pionierat in domeniul dezvoltării și introducerii tehnologiilor de reducere a dimensiunilor componentelor semiconductoare de pe placheta de siliciu, activitate cu impact deosebit pentru procesele care asigura technologiile de fabricare a dispozitivelor AI (Artificial Inteligence),

Dr. Dusa este un membru activ a unor prestigioase organizații profesionale, cum este SPIE (Society for Photo Optical and Instrumentation Engineers) și IEEE (Institute of Electrical and Electronics Engineers)

A condus timp de 16ani, Simpozionul International de Litografie Avansată și Conferințele de Microlitografie Optică ale SPIE și a predat cursul special SPIE despre Principii și Aplicații Multi-Expunere (‘Multiple Patterning’). Este editor asociat la IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, o importanta revista tehnica si de referinta in domeniu.

In viata de zi cu zi, Mircea Dusa este pasionat de fotografie si lecturi cu subiecte istorice. Este un colectionar indragostit de publicatii si carti postale de epoca care descriu trecutul indepartat si mai putin indepartat, al Romaniei.


Carcassonne al Romaniei

Henrietta Allen Holmes, Sub Farmecul României (The Spell of Romania) din National Geographic Magazine, Aprilie 1934 Pentru mine, Sighișoara este adevărata bijuterie dintre toate locurile vizitate. Este un oraș medieval, ...

București nu este deloc România

Henrietta Allen Holmes, Sub Farmecul României (The Spell of Romania) din National Geographic Magazine, Aprilie 1934   Deși Parisul poate fi Franța, Bucureștiul nu este deloc România. Această capitală nu ...

Primele impresii

Henrietta Allen Holmes, Sub Farmecul României (The Spell of Romania) din National Geographic Magazine, Aprilie 1934   Cea! Cea! Cea!, toată prima mea noapte în România, în timp ce stăteam ...

Clarificare comentarii:

Toate comentariile de pe acest blog sunt moderate.
Deși autorii articolelor de pe site, precum și redactorul-șef și administratorul, încurajează libera exprimare, aceasta presupune din partea cititorilor un comportament civilizat și un limbaj civilizat. Prin urmare, vor fi șterse comentariile care se abat de la această regulă. Acestea se referă, dar nu se limitează, la: cuvinte injurioase adresate autorilor, redactorului șef, administratorului și cititorilor blogului, precum și altor persoane, mesajele xenofobe și rasiste, mesajele ce îndeamnă la ură și violență, mesaje publicitare de orice fel (în caz că se dorește aceasta, scrieți la adresa webmaster@cristoiublog.ro), mesaje cu conținut obscen ș.a.m.d.
Cititorii sunt rugați să semnaleze orice abatere mai înainte menționată. În maximum 24 de ore cele semnalate vor fi analizate și se vor lua măsuri după caz.
Toți cei care doresc să își exprime opinia pe acest blog, se presupune că au citit și că sunt de acord cu cele menționate mai sus. În caz de dezacord, sunteți rugați să nu scrieți niciun comentariu sau să părăsiți imediat acest site.
Mulțumim tuturor cititorilor pentru opiniile civilizat exprimate, precum și pentru colaborarea lor!